Особливості використання алмазоподібних вуглецевих плівок в якості антивідбивних покриттів
Основний зміст сторінки статті
Анотація
Плівки аморфного гідрогенізованого вуглецю а-С:Н завдяки таким властивостям, як хімічна інертність, інфрачервнева прозорість, твердість, зносостійкість, низький коефіцієнт тертя та біосумісність знаходять застосування в оптиці і електроніці, машинобудуванні та медицині. В представленій роботі плівки аморфного вуглецю досліджуються з метою подальшого їх застосування в якості антивідбиваючого покриття на інфрачервневих вікнах з германію, а також для орієнтування рідких кристалічних шарів в рідкокристалічних модуляторах світла. В роботі наведено технологічні чинники плазмохімічного осадження плівок з газової фази як одного з найпоширеніших та результативних технологічних методів.
Серія з трьох алмазоподібних вуглецевих плівок була виготовлена за допомогою плазмохімічної установки для осадження a-C:H плівок. Осаджені плівки аналізували спектроскопічним еліпсометром Semilab SE-2000, що являє собою унікальну модульну оптичну платформу, що включає спектроскопічний еліпсометр з обертовим компенсатором. Спектральний еліпсометр дозволяє проводити безконтактний, неруйнівний оптичний аналіз одно- і багатошарових структур на кремнії, склі, плівковому носії, а також визначати товщину тонкоплівкових зразків і їх оптичні властивості такі як: коефіцієнт заломлення, показник поглинання, оптична ширина забороненої зони. В роботі наведено залежності отриманих еліпсометричних коефіцієнтів. На основі отриманих залежностей було виконано розрахунки з використанням матриць та рівнянь Френеля.
На основі вимірювань залежності коефіцієнта відбиття від кута падіння монохроматичного випромінювання реалізовані можливості багатопараметричного, локального, експрес-неруйнівного визначення товщини, показників заломлення та поглинання шарів від кількох нанометрів до десятих мікрометра. Отримані значення для n, k і d знаходяться в діапазонах: для n - 1,448 - 1,621, для k - 0,345 - 0,062, а для d від 136,20 нм до 74,66 нм. Для використання вуглецевих плівок в якості антивідбивних покриттів необхідно, щоб його показник заломлення мав значення близько 2,0. Отримані значення показника заломлення є меншими, що не відповідає вимогам для антивідбивних покриттів. Але значення n - 1,448 - 1,621 задовольняє вимогам використання плівок для формування однорідної орієнтації рідких кристалів в пристроях на їх основі.
Блок інформації про статтю
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).
Посилання
K. Enke, H. Dimigen, and H. Hubach, “Frictional properties of hard and insulating carbonaceous films grown in an R.F. discharge,” Appl. Phys. Lett., vol. 36 , no. 4, pp. 291–292, 1980.
A. Bubenzer, B. Discler, G. Brandt, and P. Koidl, “Role of hard carbon in the field of infrared coating materials,” J. Appl. Phys., vol. 54, no. 8, pp. 4590–4595, 1983, DOI: 10.1117/12.7973404.
K. Enke, “Hard carbon layer for wear protection and the antireflection purposes of infrared devices,” Appl. Opt., vol. 24, pp. 508–512, 1985, PMID: 18216979.
S. F. Pellicori, C. M. Peterson, and T. P. Henson, “Transparent carbon films: Comparison of properties between ion- and plasma-deposition processes,” J. Vac. Sci. Technol. A, vol. 4, pp. 2350–2355, 1986, DOI: 10.1116/1.574075.
L. Klibanov, N. I. Croitoru, A. Seidman, V. Gilo, and R. Dahan, “Diamond-like carbon thin films as antireflective and protective coatings of GaAs elements and devices,” Opt. Eng., vol. 39, no. 4, pp. 989 – 992, 2000, DOI: 10.1117/1.602448.
R. Memming, “Properties of a-C:H layers made by CVD,” Thin Solid Films, vol. 143, pp. 279–289, 1986.
Е. А. Konshina, V. A. Tolmachev, A. I. Vangogen, and L. A. Fatkylina, “Investigation of the properties of plasma-polymerized layers and their influence on the orientation of nematic liquid crystals,” Opt. journal., vol. 64, no. 5, pp. 88–95, 1997.
V. A. Tolmachev and Е. А. Konshina, “Ellipsometric study of a-C:H films,” Diam. Relat. Mater., vol. 5, no. 12, pp. 1397–1401, 1996, DOI: 10.1016/S0925-9635(96)00551-1.
E. A. Konshina, V. A. Tolmachiev, A. I. Vangonen, and A. P. Onokhov, “Novel alignment layers produced by CVD technique from hydrocarbon plasma,” Proc. SPIE, vol. 3015, pp. 52–60, 1997, DOI: 10.1117/12.271402.
R. M. A. Azzam and N. M. Bashara, Ellipsometry and polarized light. .